150台光刻机，荷兰动真格了，外媒：结束了

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导语：一场国际半导体风暴正在悄然升级，瓦森纳协定的限制对A *** L公司和全球半导体产业产生着深远影响。本文将深入探讨荷兰对主流DUV光刻机出货的限制政策，以及对A *** L在国内市场的影响，同时分析国内厂商在去美化和研发更先进芯片方面的努力，预示着半导体行业格局的潜在变革。

瓦森纳协定的限制似乎只是冰山一角，A *** L公司仍然能够继续出货DUV光刻机，包括2000i型号，这些机器成为EUV光刻机的过渡产品，为芯片制程的缩小至5纳米提供支持。然而，美国和日本最近签订了三方协议，要求荷兰限制主流DUV光刻机的出货，虽然荷兰表示将合作，但没有透露具体政策和时间表。

然而，最近的消息表明，荷兰已经正式宣布限制主流DUV光刻机的出货，这一政策将于9月1日正式生效。这一限制将对A *** L公司造成巨大影响，据数据显示，A *** L未交付的订单金额高达389亿欧元，国内订单占比高达20%，总金额超过600亿元。特别是2000i型号及其后续型号的DUV光刻机，其平均单价高达4亿元，这意味着约有150台光刻机可能无法正常交付。尽管A *** L表示中国市场至关重要，将会向中国厂商分配更多产能，出货更多光刻机，但新规落地后，A *** L也无可奈何。

或许A *** L早已预料到了这一结局，不仅提前透露了三方协议的签署消息，还宣布在国内开设超过200个岗位，覆盖光刻机、计算光刻和量测业务等多个领域，以实现更多技术国产化，获得出货自由。然而，A *** L光刻机的核心技术仍然源自美国。荷兰的限制政策将不可避免地导致A *** L在国内市场份额的进一步下滑。

首先，A *** L在国内市场份额持续下滑，从14%已经下降到了8%。荷兰限制主流DUV光刻机的出货将进一步加速A *** L在国内市场的份额下滑。一方面，国内厂商需求更多先进型号的DUV光刻机和EUV光刻机，但EUV光刻机限制出货，因此国内厂商将转向先进的DUV光刻机，然而，这些光刻机也将受到限制。另一方面，A *** L能够出货的DUV光刻机型号在国内市场的需求相对较小，而且国内已经能够自主生产光刻机，尤其是28纳米精度的光刻机已经取得技术验证，量产即将到来。

其次，国内厂商如华为已经积极推动去美化，建立非美技术的芯片产业链。中芯国际表示，28纳米工艺的风险率持续下降，14纳米工艺的良品率达到了全球领先水平。华为的畅享60系列芯片采用了14纳米的去美化工艺，这意味着去美化已经基本完成。此外，华为已与国内厂商合作实现了14纳米以上EDA工具的国产化，中芯国际自主研发了N+1等工艺。据李楠透露，未来12个月内，国内厂商将实现非美7纳米全流程制造。这意味着国内厂商正在加速去美化，对A *** L光刻机的需求将持续减少。

最后，国内厂商如华为正积极研发更先进的芯片，这些芯片不再依赖于A *** L的光刻机，而是涉足量子芯片、光电芯片和小芯片技术等领域。国内已经启动了量子芯片生产线的建设，而华为在光电芯片领域处于领先地位，国内小芯片技术已经突破到了4纳米。荷兰也宣布将投资11亿欧元用于光电领域的研发，希望打造另一个A *** L。所有这些因素加在一起，使得荷兰的限制政策成为了不可避免的趋势。半导体行业的格局变革已经开始，国内厂商正在崭露头角，A *** L面临着前所未有的挑战。

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光刻机为啥这么难造？比 *** 还稀有，全世界仅两个国家掌握技术

上世纪我国之一颗 *** 爆炸成功之后，世界为之震惊，国人也为此自豪。如今时过境迁，在岁月洪流的推动之下，出现了一种比 *** 还稀有的东西，它就是光刻机，其制造难度属于“地狱级别”。

因此到目前为止，全世界仅有两个国家掌握了制造光刻机的主流技术。

那么，到底什么是光刻机？掌握这项技术的国家又是哪两个？为什么光刻机的制造会这么困难？接下来，就让我们一起来看看被誉为新时代“神器”的光刻机究竟有什么特殊之处。

光刻机的发展历程

随着互联网的普及，人类步入了真正的信息时代，而信息时代的关键产业当然就是IT了，那么IT最核心的东西是什么呢？

自然是半导体集成电路（IC）芯片制造技术，也叫做微电子技术。

在这项技术当中，最为重要的就是“光刻技术”，因为它的进步可以使摩尔定律不断延伸，让更多的“高端芯片”得以出现。

相信大家都有感觉，现在的芯片与从前的芯片相比起来，不仅在性能方面有了很大的提升，就连“个头”也是在做减法，而这其中的的奥秘就在于“光刻机”。

它对可制造材料有着丰富的兼容能力，且能在“纳米尺度”对器件任意的几何构型都有一定的支持能力，使得小小芯片当中容纳的晶体管数量越来越多。

资料显示，从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约1/10000。

当然作为一项可以与 *** 制造比肩的高新技术，光刻机的发展也是经过长期积淀的，所以根据所用光源的改进以及工业创新，光刻机前后经历了大约“5代产品”。

之一代为接触式光刻机，掩模会和光刻胶直接接触，使掩膜版和基片都易受到损伤。第二代是接近式光刻机，掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长，但是成像质量也受到了影响，分辨率明显下降。

到了第三代时，就已经有了明显进步了，属于扫描投影式光刻机，在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破，将光刻推向了深亚微米和百纳米级别。

至于第四代步进式扫描投影光刻机，就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动，将芯片的“最小工艺”节点再次拔高。

第五代EUV光刻机，就是现在各国追求的尖端光刻机。因为这个光刻机，已经将最小工艺节点推向了一个“极限”。

资料显示，EUV光刻机采用波长为13.5nm的激光等离子体光源作为光刻曝光光源。使其波长达到193nm的1/14，几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，将最小工艺节点推进至7nm。

说到这，可以看出光刻机一路的发展其实都算是在挑战“极限”，不断靠近最小工艺节点。那么，大家认为能够拥有如此高超的研发能力，掌握这样核心技术的国家会是哪两个呢？

许多人可能之一时间就想到了美国，毕竟美国一直在不少领域都掌握了核心科技。但实际上，掌握主流光刻技术的两个国家分别是荷兰和日本，就连美国的光刻机也只能依靠进口。

在这之中，荷兰的阿斯麦尔公司主导高端市场，日本的尼康和佳能则占据了低端市场的大量份额。那么，这只让“两家独大”的光刻机，到底有多难造？

光刻机为何如此难造？

其实对于光刻机为什么这么难造的问题，我们可以用第五代EUV光刻机为例子，来找找原因。

首先EUV光刻机的总重量达到了180吨，需要几十个集装箱运输，并且即使运到了地点也要准备一年的时间等待安装调试。可以看出，光刻机绝对不是大家想象中的“小玩意儿”，它是非常庞大和复杂的。

目前的高端光刻机的制造主要面对几个技术难题，之一就是解决“光源”的问题。

由于要实现更精细的工艺节点，光刻机必须要把光刻画成直径极其微小的线条，而这个初始光源就显得尤为重要了。

EUV光刻机使用的是13.5纳米的极紫外线，这种紫外线是短波紫外线多次反射后得到的。而得到这个光的 *** ，不亚于用乒乓球打苍蝇，而且是每秒要打五万次，次次都得击中。

第二就是工作台的高精度移动，因为要配合芯片加工的情况，工作台在工作的时候必须要保持同步精准，不然即使光刻技术没问题，也会因为细小的偏差功亏一篑。此外还有耗电、反射镜等高新技术问题，都是光刻机能否顺利制造的关键。

当然，技术难题只能算是其中的一个“小巫”，因为各国对于光刻机的制造都很上心，所以随着技术的研发，许多技术上的难题都将被解决。因此更大的问题其实在于，咱们上文中说的，光刻机本身是非常庞大和复杂的，它内部的各个零件都来自于不同的国家和公司，算得上是真正的“大杂烩”。

就用荷兰阿斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说，这个光刻机中有10万多个零件，其中90%的关键设备都来自其他国家，该公司只负责整机设计和各模块集成。

可以看出，想制造光刻机仅有核心技术是不够的，因为许多零件都要依靠进口，在这种情况下，想独立制造，肯定是极难做到的。

简单来说，光刻机算得上是凝聚了各国人才心血的产物，其原材料来自五湖四海。而荷兰和日本虽然已经在这个领域独占鳌头，但是也无法实现“整机国产化”生产，依旧需要全球上下游产业链的供给和支持。

除此之外，光刻机的研发经费过高也是一个关键的问题。尤其是在前期研发并无法量产的情况下，几个亿砸进去就像是石子落入大海一样，有时候连个“响”都听不见。

因此，不少国家在衡量了利弊之后，还是选择了直接进口。毕竟想靠着自己研发并且生产，实在是太费劲儿了。可能等到光刻机的制造难度再降低一些，未掌握核心技术的国家才会选择继续研究。

值得一提的是，由于各国之间存在“政治博弈”，所以我国的芯片制造领域一直面对着很大的难题。

虽然近年来，国家对于光刻机制造十分关注，甚至出了不少钱投资研究，但是我国的光刻机想真正“落地”还有很长的路要走。

我国光刻机研发面临的挑战

首先就是我国目前依旧缺乏高性能光刻机制造技术，从光刻机的发展历程就能看出，它对于工艺节点的要求越来越高。

高性能的光刻机当中 *** 了德国的蔡司镜头技术、美国的控制软件和光源以及日本的特殊复合材料等等。而以上这些，都是咱们的短板。

其次就是高端光刻胶主要依靠进口，比如适用于12寸硅片的ArF光刻胶就是完全依靠进口的。从目前的情况来看，高端光刻胶当中日本所占的份额最多，其中生产的企业有日立化成、东京应化、日本富士胶片等等。

此外其他用于制备光刻机的原材料也常常出现短缺的情况，尤其是在政治博弈的背景之下，我国在这方面总是会被“卡脖子”。

最后就是人才短缺的问题，以目前的情况来看，国内缺乏高技术人才，并且在半导体企业规模小待遇低的情况下，许多人都不会选择这个行业，人才流失极为严重。

由此可见，如今想造出这种比 *** 还稀有的东西并不容易，尤其是想“独立制造”的话，肯定是需要“厚积薄发”的，大家不妨就耐心等待吧。

外媒：荷兰把光刻机事情彻底闹大了

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美日荷达成三方协议后，时隔五个月，终于迈出了实质性的一步。日本在七月二十三日宣布对二十三种半导体设备实施出口管制后，荷兰也不甘示弱，最近正式宣布将在九月一日生效，实施类似的出口管制。

这三方协议主要针对的是先进半导体设备，其中最为关键的是光刻机，而全球光刻机市场的霸主正是荷兰的A *** L。因此，荷兰在这一事件中的立场至关重要。然而，荷兰的反应却让人大跌眼镜！

荷兰正式宣布实施出口管制，这实际上意味着他们已经毫不犹豫地站在了美国一边。荷兰媒体也没有保持委婉，直接表示荷兰之所以会作出这一决定，根本原因在于来自美国方面持续的压力。

今年一月底，A *** L曾透露美日荷三方达成了一定的协议。然而，荷兰方一直保持低调，与日本不同，他们的行动一直拖延，直到现在才宣布实施出口管制。这表明荷兰一开始可能存在犹豫，或者在权衡各种利益。

值得一提的是，A *** L总裁时隔六年后访问中国，与我国商务部长举行了会面，旨在加强合作。同时，我国也派遣代表团访问荷兰，不仅加强了双方的沟通，还专门造访了A *** L总部，与公司高层进行了会谈，自然而然地会谈及了光刻机的出货问题。

此后不久，荷兰外长也访问了中国，旨在寻求更多的合作。在记者会上，荷兰外长明确表示，荷兰的出口管制措施不是针对任何特定国家，但他们也有责任保护本国的安全。

实际上，从当时荷兰外长的表态中，我们可以窥见荷兰的态度，尽管他们希望加强与中国的合作，但他们仍然决定实施出口管制，这就是他们提到的“不针对任何国家”和“保护安全”的含义。

如今，荷兰的出口管制政策正式落地，荷兰似乎在综合考虑各种利益后选择了站在美国一边。而A *** L也迅速表态，承诺严格遵守荷兰的出口管制新规，强调不会影响今年的财务状况。这也意味着荷兰对光刻机出口的限制并没有对A *** L造成太大的冲击。

荷兰此次宣布的半导体设备出口管制新规对光刻机的限制进行了明确规定，情况与之前A *** L公布的情况基本一致。其中，浸没式1980Di型号的光刻机可以继续向中国企业出货。然而，2000i及以后型号的光刻机需要向荷兰 *** 申请出口许可证，但获批的可能性较小。

荷兰与日本一样，光刻机的限制标准为45纳米以下，但荷兰还要求光刻机的DCO值小于或等于1.5纳米，而1980Di型号的DCO值正好小于等于1.6纳米。因此，A *** L的1980系列光刻机不受荷兰出口限制的影响。此外，荷兰规定出口管制将在两个月后开始执行，这似乎给了A *** L一些时间来应对。

然而，事情并不会那么简单。因为荷兰一旦实施出口管制，美国的芯片限制就相当于迈出了重要的一步，不少型号的光刻机将无法出口给中国企业，而且美国还有可能采取更进一步的措施，限制更多的光刻机出口。

很快，美国媒体传出消息，美国计划升级去年十月发布的出口管制新规，在荷兰的基础上进一步收紧，即使含有少量美国零部件的设备也将不允许出口给中国企业。这将首先表现在三方协议出口申请审批制的收紧上，中芯国际等六家中国晶圆厂的申请都将被驳回。

其次，半导体制造设备的出口管制标准也将进一步收紧，凡是含有美国零部件的设备都可能面临出口限制，具体涉及哪些设备制造商以及哪些设备还需要等待美国 *** 的详细规定。

换言之，接下来A *** L能够出口的浸没式光刻机也有可能被禁止出口。因此，我们不

应再寄希望于A *** L的出货，而是应当着眼于国产28纳米浸没式光刻机，只有国产光刻机的突破才是未来之路。

我们应该坚信，我们有能力突破国产光刻机的技术瓶颈。历史已经多次证明，没有中国人突破不了的技术难题。虽然我们的光刻机目前仍存在一定的差距，但一旦被迫到了一定程度，必将会加速技术创新和突破。

届时，荷兰的A *** L将失去全球更大的市场份额，这对他们来说将是一记沉重的打击。外界媒体已经开始反思：荷兰把光刻机事情彻底闹大了！

总结来看，美日荷三方协议虽然在表面上是针对半导体设备的出口管制，但实际上牵涉到了全球半导体产业格局的重大变革。荷兰的立场转变，以及美国的继续升级出口管制政策，都在彰显着国际半导体产业的紧张局势。在这个背景下，中国必须坚定信心，加大自主研发的力度，争取在半导体领域取得更大的突破，以确保国家的安全和发展。只有自主创新，才能够在国际竞争中立于不败之地。

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外媒：荷兰把光刻机事情彻底闹大了

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美国、日本和荷兰达成的这项三方协议，经过了漫长的五个月等待，终于全面落地。其中，日本于7月23日宣布对23种半导体设备实施出口管制，而荷兰则最近宣布将于9月1日正式实施出口管制。这一协议主要关注先进半导体设备，其中最关键的设备之一就是光刻机，而全球光刻机市场的主导者正是荷兰的A *** L公司。因此，荷兰的态度在这次协议中显得尤为关键。

然而，荷兰在这次事件中的表现引起了广泛关注，可以说是把光刻机事情搞得相当大。荷兰宣布实施出口管制，表明他们已经完全站在了美国一边。荷兰媒体也毫不避讳地表示，荷兰之所以做出这一决定，根本原因在于受到了美国方面持续的压力。

从今年年初A *** L透露美日荷三方达成协议的消息以来，荷兰方面一直保持低调，与日本不同，他们没有立即采取行动。虽然荷兰在3月份决定限制出口，但一直拖延到现在才正式宣布。这表明，荷兰一开始并不愿意配合美国方面的限制，也有可能在权衡各种利益。

此前，A *** L的总裁时隔6年访问中国，与我国商务部长进行了会面，以期加强合作。双方进行了多次互访和交流，甚至我方代表团前往荷兰访问，专门拜访了A *** L公司的高层，自然而然地就涉及到光刻机的出货问题进行了一定程度的沟通。

不久之后，荷兰外长也访问了中国，旨在寻求更多的合作机会。在记者会上，荷兰外长表示，荷兰的出口管制措施并不针对任何特定国家，但他们也有责任保护自己国家的安全。从当时的言辞可以看出，荷兰虽然愿意加强与中国的合作，但仍然坚持实施出口管制，这也从中体现出荷兰的态度。

如今，荷兰终于宣布了新的半导体设备出口管制规定，明确了对光刻机的限制内容。这与A *** L早前公布的情况基本一致，即1980Di型号的光刻机可以向中国企业出货，而2000i及以后的型号需要向荷兰 *** 申请出口许可证，但通过的可能性较小。不过，荷兰还特别规定了出口管制将在两个月后开始执行，这意味着荷兰可能还在考虑对A *** L公司的利益作出一定妥协。

然而，事情并不是那么简单。一旦荷兰实施出口管制，美国方面的芯片限制就将向前迈进一大步，许多型号的光刻机将无法出口给中国企业，而且可能会采取更进一步的措施，限制更多的光刻机。美国媒体迅速传出消息，称美国计划在去年10月发布的出口管制新规的基础上进一步收紧规定，即使含有少量美国零部件的设备也将不允许出口给中国企业。这将导致包括中芯国际等在内的6家中国晶圆厂的申请被驳回，并将进一步收紧半导体制造设备的出口管制标准，具体细则还需等待美国方面进一步公布。

因此，我们不能寄望于A *** L公司能够继续向中国企业出货。唯有国产的28纳米浸没式光刻机才有望成为未来的选择。虽然中国的光刻机目前与国际领先水平仍有一定差距，但在面临压力的情况下，我们有理由相信，中国必将加速光刻机技术的突破。毕竟，历史已经多次证明，没有中国人突破不了的技术难关。

总之，荷兰在这次光刻机出口管制问题上的举动引发了广泛关注，而这一事件也凸显了光刻机在全球半导体产业中的关键地位。面对不断变化的国际形势，中国必须加强自主创新，尽快突破光刻机等核心技术，以保障半导体产业的发展和国家安全。只有如此，中国才能在全球半导体产业竞争中占据更加有利的地位。

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光刻机没有反转，荷兰把事做绝，A *** L设备维修也可能面临限制

2023年6月30日，荷兰 *** 宣布了一项新规定，限制先进半导体制造设备的出口，这项规定将于2023年9月1日开始生效。尽管荷兰 *** 没有具体说明哪些先进半导体设备将受到限制，也没有指明出口的目标国家，然而这一举措无疑呼应了美国的战略，引发了广泛的关注和讨论。

回顾今年年初，美国与荷兰、日本达成协议，将对特定国家的先进半导体设备出口进行限制。此后，日本率先表态，紧随其后的是荷兰，荷兰限制先进半导体出口对我国的半导体产业影响重大。荷兰作为全球最领先的光刻机制造基地，其巨头公司A *** L更是全球更先进的光刻机垄断者。这一垄断地位使得荷兰光刻机在我国14纳米以下芯片的制造中扮演着至关重要的角色。然而，荷兰的这一限制措施并未止于更先进的EUV光刻机，还包括了DUV光刻机的最新型号，诸如2000i/2050i。

对于荷兰的限制措施，有人持怀疑态度，认为荷兰最终将难以为继。人们普遍认为，中国作为全球更大的半导体制造业国家之一，在近年来对光刻机的需求迅速扩大，特别是A *** L公司每年都有大量光刻机销往中国大陆，中国市场在其财务报表中占据显著份额。因此，人们推测荷兰可能会在压力下逐渐放宽限制，使得中国仍能正常进口DUV光刻机，为光刻机市场带来一丝反转。

然而，荷兰的决心远比人们所想象的强大。荷兰不仅限制了新设备的出口，还进一步扩大了对已出口设备的限制范围。根据彭博社的爆料，荷兰的出口管制规定将阻止A *** L未经 *** 批准为受限制设备提供维护、修理服务和备件供应。消息人士还透露，美国 *** 预计将禁止A *** L在未获得华盛顿批准的情况下，向约6家中国工厂出售上一代DUV设备。

若这一限制措施扩展到设备维修，那么中国企业购买的部分DUV光刻机也将受到影响。虽然我们无法准确统计从A *** L购买的DUV光刻机数量，但这些设备的许多零部件来自荷兰、欧美、日本和中国台湾的供应商，其中中国大陆的零部件占比相对较少。这意味着，一旦这些DUV光刻机需要维修，大部分零部件都需从国外采购。如果荷兰将维修和零部件供应也限制在范围内，购买来的设备一旦出现故障，可能将无法正常运作，成为一项高价的摆设。

这种情况不仅让企业承受重大损失，更严重的是，我国的芯片制造将陷入困境，尤其是在14纳米以下芯片制造领域，充满了不确定性。

欧美对我国先进半导体产业发展的限制表明了其坚定的意志，他们试图从根本上削弱中国在14纳米以下芯片领域的研究和生产能力。然而，正如人们所言，逆境也是自强的机会。面对这些严格的限制，我国半导体产业迫切需要实现更大的突破，这将迫使我们在国内建立独立的产业链，实现自主研发。

光刻机技术的难度不容小觑，而且研发周期漫长，然而这并不代表我们无法着手。早在上世纪60年代，我国就开始了光刻机的研发，与欧美差距仅有3~5年。然而，上世纪80年代以来，我国逐渐开放市场，许多企业开始倾向于低成本的外部进口，而不是投资大量资金自主研发，导致国内半导体设备供应链的缺失，光刻机技术距离欧美更远。

然而，随着欧美限制加剧，我国只能寻求国产设备，这或许会推动国产设备获得更多机会。近年来，我国在半导体设备领域取得了显著突破，如在光源、工作台、光罩、掩膜板等方面的

创新进展。不久前，中国科学院新疆理化所的潘世烈科研团队成功研制出新的非线性光学晶体，实现了深紫外激光的输出。这种创新有望满足我国半导体晶圆检测等领域的需求，甚至可能成为制造DUV光刻机的关键光源之一。

尽管外部限制在短期内可能对我国半导体产业造成影响，但从长远来看，这也是一种机遇。这种限制将迫使中国半导体产业加速自主研发，逐渐建立完整的产业链。在这个过程中，我们必须克服诸多技术挑战，从光刻机技术到零部件供应，都需要突破自身的局限，寻找新的创新路径。

这一挑战不仅是技术上的，也涉及到人才培养和政策支持。我们需要吸引更多优秀的人才投身于半导体产业，推动创新的蓬勃发展。同时， *** 也需制定有利于产业发展的政策，为自主研发提供支持和保障。

在这个过程中，我们或许会经历一段困难时期，但正如许多挑战一样，它也会激发出我们更强大的潜能。中国半导体产业的未来不仅在于技术突破，更在于我们的决心和勇气。面对外部的限制，我们要保持自信，坚定地迈向自主创新的道路。

在危机中催生机遇，在限制中实现突破，这是中国半导体产业的新征程。虽然荷兰的限制措施可能暂时影响了我们的发展，但通过自主研发和创新，我们有信心克服一切困难，为我国半导体产业的繁荣做出新的贡献。

总而言之，虽然外部限制对我国半导体产业构成了挑战，但也为我们打开了创新的大门。通过坚定的信心、自主的研发和政策的支持，我们有能力在半导体领域取得更大突破，实现产业的跨越式发展。这将是一段困难而充满希望的旅程，我们必将凭借坚韧的毅力和智慧，引领中国半导体产业迈向更加辉煌的未来。

A *** L再次表态，EUV光刻机不卖给中国，胡伟武：14nm芯片够用了

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根据《中华人民共和国2020年国民经济和社会发展统计公报》，2020年我国集成电路进口数量高达5435亿个，进口总额达2.4万亿元，同比增长14.8%。令人震惊的是，与之相比，我国2020年石油原油进口总额只有1.22万亿，这意味着我们购买芯片的开支竟然是购买石油的两倍之多！

那2.4万亿元到底有多大呢？以我国现役航母辽宁号的造价约为500亿为例，我们每年用于购买芯片的资金足以建造48艘辽宁号航母！

正是在这背景下，国务院在去年发布的《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》中，明确提出了在2025年左右实现芯片自给率70%的目标。

然而，要实现这一目标，更大的挑战不在于研发、设计或封装验证，而在于芯片制造，尤其是芯片制造中最核心的高端EUV光刻机。这一领域一直被荷兰光刻机巨头A *** L所垄断，尽管我们多次尝试购买，但始终未能成功。

A *** L再次明确表示，不会向中国出售EUV光刻机。事实上，几年前，A *** L曾愿意向中国出售这种设备。在2018年，中国大陆的芯片代工巨头中芯国际预付了1.2亿美元购买一台EUV光刻机，但在关键时刻被美国叫停。

这背后有两个原因。首先，欧美等40个国家签署了《瓦森纳协定》，禁止出售电子器件、计算机、传感与激光、航空电子仪器等9大类产品和技术给包括中国在内的多个国家。尽管光刻机未明确列入其中，但只要美国不同意，A *** L不敢轻举妄动。第二，美国商务部工业安全局紧急修改了《出口管理条例》，明确禁止出口用于制造5纳米芯片的技术，显然包括EUV光刻机。

因此，A *** L在上海进博会上明确表示，除EUV光刻机外，其他产品可以正常发货。唯一的选择是100%自主研发国产EUV光刻机。

这条路虽然充满挑战，但我们无需灰心。过去的成功项目如“两弹一星”和“北斗系统”都表明，只要外国人能做到，我们中国人一定也能！

此外，对EUV光刻机的重要性存在争议。国产CPU龙芯的总工程师胡伟武质疑，难道没有EUV光刻机，中国就不能制造先进芯片吗？他认为，答案是否定的。他明确表示，14纳米芯片已经足够，可满足90.9%的应用需求，只要进行系统优化，不需要依赖美国的5纳米芯片制程。

胡伟武的观点颇具道理。我国最需要的不是高端制程芯片如5纳米和7纳米，而是微米级、90nm~28nm之间的成熟制程芯片。举例来说，即使对于像北斗卫星这样高精尖的项目，直到2020年前，其芯片仍然采用28纳米制程。为什么？因为在工业和航天应用中，芯片的稳定性至关重要，而不仅仅是晶体管的数量。

如果我国能够国产化28纳米芯片，那么几乎85%以上的工业生产，如冰箱、洗衣机、电视、蓝牙耳机、机顶盒、路由器、汽车电子等都能满足需求。如果能国产化14纳米芯片，那么低端手机、平板、基站等场景也能实现“芯片自由”。

所以，我们完全有能力国产化14纳米芯片，甚至7纳米芯片。中芯国际的CEO梁孟松已经明确表示，28纳米、14纳米、12纳米等技术已进入规模生产，7纳米技术的开发也已完成。这表明，中国可能已经开始量产7纳米芯片。

有人可能会问，没有EUV光刻机，如何生产7纳米芯片？事实上，并非非要使用极紫外EUV光刻机，深紫外DUV光刻机同样能胜任，台积电就曾首先采用DUV光刻机量产7纳米芯片。无论是A *** L的DUV光刻机还是即将量产的国产DUV光刻机，都能满足要求。

总结而言，胡伟武的观点有道理。芯片产业与众多物理设备相互关

联，如光刻机、蚀刻机、离子注入机、薄膜沉积、光刻胶、光源、电子物镜等等。这些设备依赖一个庞大的工业体系的支持，而不仅仅是EUV光刻机。

因此，EUV光刻机并不是唯一紧迫的问题。在考虑这一点时，我们需要认识到芯片产业的广泛性质。光刻机是其中的一环，但还有其他许多关键环节需要发展和完善，例如材料科学、工艺技术、设计能力、人才培养等等。如果这些环节不健全，即使拥有EUV光刻机，我们也难以真正实现芯片自主制造。

此外，我们应该明确自身需求。胡伟武提到，对于绝大多数应用而言，14纳米芯片已足够。我们不必盲目追求5纳米或7纳米制程，而是应该注重系统优化，发挥各种资源的综合优势。

综合考虑，中国在芯片领域有着巨大的潜力和机会。虽然挑战重重，但我们拥有坚韧的精神和丰富的人才资源。历史上的成功项目如“两弹一星”已经证明，只要我们坚定信心，集中力量，就能克服困难，实现自主创新。

因此，对于中国来说，实现芯片自给率70%的目标是可行的，而不仅仅依赖于EUV光刻机。我们需要继续加大投入，提高自主研发能力，培养更多的芯片专业人才，加强国际合作，共同推动芯片产业的发展。只有这样，我们才能在芯片领域取得更大的突破，实现自主可控，确保国家安全和经济可持续发展。

在这个关键时刻，我们需要团结一心，共同努力，为中国芯片产业的繁荣做出贡献。只有这样，我们才能实现芯片自由，确保国家在科技领域的竞争力。

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荷兰芯片禁令中最后的一个“漏洞”：光刻机，能支持7nm工艺

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荷兰终于宣布了一项令人震惊的芯片禁令，这一禁令将在不久的将来生效，对先进的芯片制造技术产生了深远的影响。这项举措引起了全球科技行业的广泛关注，被视为对全球半导体产业格局的一次重大改变。

首先，让我们回顾一下这个禁令的核心内容。荷兰的芯片禁令主要针对先进的芯片制造技术，包括沉积设备和浸润式光刻系统等。特别值得一提的是，与EUV技术有关的设备被完全禁止。即使在禁令发布之前已经销售的光刻机，只要不符合禁令规定，后续的维修和保养也需要获得许可证。

荷兰 *** 表示，这项禁令旨在填补当前政策中的“最重要漏洞”，并承诺尽可能不干扰全球芯片生产。然而，在禁令中仍然存在一个“漏洞”，即荷兰规定可以出口一台能够支持到7纳米工艺的光刻机。这个规定似乎是禁令的一个例外，因为其他所有与7纳米有关的技术和设备都受到了限制。

根据荷兰的规定，光刻机必须满足以下两项标准之一或两者同时满足才能出口：

光源波长短于193纳米，这个条件适用于EUV光刻机，因为只有EUV技术的波长符合要求。

光源波长等于或大于193纳米，但必须能够产生分辨率小于45纳米和更大专用卡盘覆盖值小于1.50纳米的图案。

这两个条件必须同时满足，采用193纳米波长的光源，分辨率小于45纳米，同时更大专用卡盘覆盖值小于1.5纳米。

根据A *** L光刻机的参数，目前在售的TWINSCAN NXT:2050Di和TWINSCAN NXT:2000i光刻机满足以上三个条件，因此不能出口。但是NXT1980Di的分辨率虽然小于45纳米，约为38纳米，但其更大专用卡盘覆盖值为1.6纳米，略高于1.5纳米的要求，因此NXT1980系列光刻机不受出口限制的影响。

这使得NXT1980Di成为国内唯一可以购买的更先进光刻机，其他更先进的光刻机都无法购买。NXT1980Di采用193纳米光源，但通过一层水后等效为134纳米波长的光源，其分辨率在38纳米左右，每小时生产晶圆数量高达275wph，数值孔径为1.35NA。

在实际应用中，NXT1980Di可以用于生产7纳米芯片，台积电的之一代7纳米工艺就是基于NXT1980Di实现的，后来才升级为EUV 7纳米工艺。尽管NXT1980Di更高支持7纳米工艺，但在大多数情况下也可生产28纳米和14纳米芯片，因此并未受到全面限制的影响。

总的来说，荷兰的这项芯片禁令对全球半导体产业将产生深远影响。尽管存在一些例外，但禁令依然限制了先进技术的出口，这将引发全球芯片行业的巨大变革，也将影响到各国科技企业的发展方向。随着禁令的正式实施日期临近，业界将密切关注这一重大事件的进展，以便应对可能的挑战和机遇。

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中科院5nm激光光刻技术到底是什么？

这几天，媒体上超嗨的一条，就是中科院5nm激光光刻技术突破，下面量子菌给你专业解读这篇论文。

本来这篇研究论文，是微纳加工领域里的一个进展，实验室研究，和工业界没啥关系，谁知道题目里的“lighography” 一下子挠到了某些媒体的某点。

“lighography”这个词就是光刻的意思，看到光刻，他们就联想到光刻机，看到5nm，就联想到台积电的5nm 芯片制程，结果新闻就开始走样了，成了中科院弯道超车，荷兰A *** L吓傻了。

其实这篇文章谈到的主要是超高精度的无掩模的激光直接刻写，这个和芯片加工那个光刻机说没关系吧，都是微纳加工的手段。

说有关系吧，光刻机是商业制造芯片，这个激光光刻目前只能在实验室里刻点沟沟道道，写个图案玩，离工业应用还十万八千里。

下面，量子菌就带大家粗略的读读这篇纳米神刊Nano letters的文章。

其实搞纳米的都知道，发在这个NL杂志上，就意味着离实际应用还很远远，我们文章末尾都会写，本论文的研究在xxx领域有潜在的应用，有望xxxx。

来到Nano letters的网站上，来看中国科学院苏州纳米所 Nano Letters的这篇研究论文。

题目是：5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography。

从题目上可以看出，他们报道了一种超高精度激光光刻的加工 *** ，可以制备最小5nm间隔的纳米狭缝电极和阵列。也就是用激光在基底上可以刻出沟道，处理后可以得到最小间隔5nm的电极。

这当然是微纳加工领域的一个进步，对于无掩模刻写来说，激光直写一直受限于衍射极限，很难做到10 纳米以下的超高精度加工。

激光直写，意思很简单，就是直接用激光照着一行一行的来写图案，所以加工时间是硬伤啊，而且书写区域也不大。以前的激光直写，适合加工一些微纳器件，做做机理研究发发文章。

本文报道的新 *** ，就是采用了一种双激光束交叠的 *** ，可通过可控制激光能量和步长，在钛基底上实现了最小5nm的加工精度。

注意看下图，就是他们在钛片上用激光刻出了各种宽度的沟道，最窄的5nm。

以上的原子力显微镜照片看着很清楚，最小的沟沟是5nm宽。但是光刻一些沟道，显得有点呆板。

为了更好的展示他们的激光刻蚀技术，于是作者们又在钛片上刻了一个钟表，就是下图所示。

看到了吧，这就是你们想要的激光光刻机刻出来的钟表，那么5nm在哪里呢？你先找一找，答案在评论区见。

用激光在钛片画一些沟道，有啥用呢？

答案是：可以在刻蚀等处理之后沉积金属，制造电极，在上面搭个碳纳米管什么的，就可以简单测试光电性质了。下面就是这些沟道经过多重处理后，制备成5nm电极阵列的样子。

刚才提到了，激光直写和光刻机不一样，光刻机即时曝光，面积也很大，12英寸的晶圆。而激光直写要一行一行的写，很花时间，很难写大面积，一般也就是mm量级，所以只能制造一些电极来做research。

但本文除了5nm的精度之外，另一个特点就是速度快。文中报道，可以在一小时内加工5×10000个纳米狭缝电极。

看起来很多了吧，但和现在光刻机加工出来的芯片比，差的还是太远，一个华为麒麟1020手机芯片，里面就有120亿个晶体管，差距是天文数字。

看完量子菌的文章解读，你也该知道了吧，这篇文章的激光直写，和光刻机没有什么关系。

文章里用激光在钛基底上画一些道道，可以做一些电极。什么中科院5nm光刻机突破，全是媒体的误读。他们看到5nm，看到光刻，就开始联想光刻机，不是弯道超车，就是吓呆荷兰阿斯麦。

我们当前确实缺乏高端光刻机，但业界也在努力追赶，上海微电子 90 nm量产，28 nm开发中。其他半导体产业也好消息不断。

但我们不能过度吹捧，媒体天天搞出来一些自嗨的笑话，都吓坏人家论文作者了，官网上文章的宣传稿都赶快下线了，这就太魔幻了。

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关于DUV光刻机限制，荷兰工程师发声耐人寻味

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现代芯片制造的背后，隐藏着一项极为复杂的工程。晶圆代工厂必须拥有精湛的技术以及符合特定工艺的光刻机。因此，光刻机的先进程度直接影响着芯片制造工艺的水平。近年来，荷兰的A *** L公司成为备受瞩目的焦点，因为全球的晶圆代工厂都要依赖它的光刻机。不论是生产7纳米以下的芯片，还是需要使用高端的EUV光刻机，以及7纳米以上的14纳米、28纳米工艺，都需要DUV光刻机。

然而，A *** L的崛起并非一帆风顺。回溯至2018年，当中芯国际向A *** L购买一台EUV光刻机时，美方曾四次向荷兰施压，试图限制A *** L向中国企业出售EUV光刻机，最终导致了EUV光刻机限制出货给中国企业的局面。

近期，美方的限制措施再次升级，他们希望限制A *** L的DUV光刻机出口。这一构想实际上早在半年前就开始酝酿，尽管美方多次派代表与荷兰和其他盟友商谈，但一直未能达成共识。A *** L对此作出了激烈的反应。

荷兰工程师们也纷纷表态，他们认为限制DUV光刻机的出口将产生负面影响，只会催生中国自主研发，最终导致光刻机自主生产。工程师们的观点是，不管是EUV光刻机还是DUV光刻机，虽然制造过程复杂，但物理定律在全球都是相同的，中国具备足够的实力，包括强大的经济实力和快速发展的科技能力，可以自主研发光刻机。

实际上，A *** L公司的总裁也表达了类似的看法，他认为限制只会导致他们被排除在市场之外。A *** L一直在密切关注中国国内光刻机的研发进展。虽然上海微电子目前的光刻机制程只达到90纳米，但他们是全球仅有的四家光刻机制造企业之一。更令人振奋的是，他们正在攻关DUV光刻机，从A *** L的反应来看，成功突破的日子应该不会太远。

由于EUV光刻机受到限制，A *** L目前主要依靠DUV光刻机来开拓中国市场，2021年，来自中国大陆的销售额占到A *** L总销售额的16%，使中国成为A *** L的第三大出货市场。然而，如果按照美方的要求对DUV进行限制，将至少影响A *** L约5%的营收。尽管这个损失比例看似不大，但一旦实施，将逐渐扩大，对A *** L的研发投入和市场份额都将产生不利影响。

A *** L担心失去市场份额，尤其是尼康和佳能正在争抢市场的情况下，他们不想错失这一重要市场。荷兰 *** 曾表示不会草率地跟随美方实施出口限制，但美国媒体报道称，荷兰和日本已初步达成协议，计划共同实施限制。这让A *** L倍感忧虑。

虽然荷兰首相试图说服美国采取共同限制措施，但似乎没有取得新的进展。不过，日本方面似乎表示支持，但不同意全面限制。目前看来，对于DUV光刻机是否会受到限制尚无定论，这或许是一个积极的信号，因为荷兰和日本都不愿意承受更大的损失。

无论结果如何，我们应该保持冷静，继续加大研发力度，争取早日实现国产光刻机的突破。在这个充满挑战的竞争环境中，中国的科技实力和自主创新能力将成为决定性的因素。在全球光刻机市场的角逐中，中国有望发挥越来越重要的作用。

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1000多台光刻机或将成废铁？中国要么取消专利权，要么5000亿回购

在这个风云变幻的时代背景下，国际局势愈发复杂，各国纷纷因应而动。博弈与合作交织成一幅错综复杂的画卷，演绎着国际格局的流转。随着全球化的进程，国际交往日益频繁，这也引发了我们对地缘政治变革的高度关切。在这场强国间的角逐中，全球命运也因战略博弈的不断变幻而交汇交融。

中国作为一个全球重要的国家，拥有独特的视角和立场。在解读国际新闻时，我们可以借鉴中国的智慧，注重和平发展、合作共赢的理念，推动国际关系的良性发展。通过建设性的对话和合作，我们可以在全球事务中发挥更大的作用，为维护世界和平稳定、推动共同发展贡献中国智慧和力量。

因此，我们有必要抓住眼前的机遇，深入分析那些在国际舞台上瞬息万变的故事。以揭开国际新闻背后的神秘面纱，消除不必要的揣测，运用中国独特的视角，汇聚智慧，解读全球大势。

每日小编都会整理4个国际上的消息，让我们紧握心中的疑问，来共同跟随报道：

• 消息1：1000多台光刻机成废铁？中国：要么取消专利权，要么5000亿回购！

自美国发布《芯片法案》以来，对中国芯片领域的打压从未停止。2022年9月，中国芯片巨头里昂微证实，美国已将“用于12纳米以下、制成的12英寸硅片”纳入了“瓦森纳协定”。

这场国际芯片竞争，正如工业界的皇冠上的新“明珠”，正在显著影响全球科技产业格局。

2023年下半年，受到“瓦森纳协定”的影响，荷兰 *** 宣布不再向中国出售“2000i及以上”的先进水平光刻机，这一决定引起了广泛的关注和讨论。与此同时，荷兰 *** 还完全违背商业规则，强行中断了中国已经购买的1000台该型号光刻机的售后服务。

光刻机作为极为精密的工业设备，在芯片制造过程中具有关键作用。荷兰 *** 的这一限制措施，实际上对中国的芯片产业造成了重大影响。由于光刻机是高度复杂的技术产品，荷兰 *** 以技术机密为由，拒绝公布任何光刻机的维修参数，使得中国购买的1000台光刻机无法正常运行，几乎成为废铁。

这一事件凸显了国际科技竞争中的新挑战。国家之间的技术斗争不仅仅是技术水平的竞争，更牵涉到国家安全、产业链的完整性和国际合作的复杂因素。荷兰 *** 的行为引发了对于技术合作和国际贸易规则的质疑，也让人们开始重新审视国际科技合作的可靠性和稳定性。

在这场国际竞争中，中国的芯片产业正面临着巨大的挑战和压力。然而，这也在一定程度上促使中国加快自主创新的步伐，推动国内芯片技术的发展和突破。中国不得不考虑如何在国际竞争中保护自己的技术和利益，同时寻求更加稳定的合作伙伴和供应链。

荷兰 *** 对于光刻机限制措施的举动，再次凸显了国际科技竞争的激烈和复杂。这一事件提醒着各国需要更加注重国际合作的稳定性和规则的尊重，以实现科技产业的共同繁荣和可持续发展。同时，也迫使中国在科技自主创新方面走得更加坚定和深入。

• 消息2：民众情绪波澜，美国24个州紧急颁布法令彻底切断与中国经济合作

中美之间的经济摩擦再度升级，令人们不禁感叹。作为对美国制裁行动的反击，中国宣布对涉及中美关系的24个美国州实施制裁令，这一回应引发了人们对两国经济关系未来走向的更多疑虑。然而，我们必须认识到，这种局势的产生并非无法避免，而是源于双方长期的经济矛盾与争议。

中美经济关系的纷争已经逐渐升级，这引发了人们对未来走向的思考。事实上，这一争端的走向不仅仅涉及双边关系，更牵涉到全球经济的走势。双方在贸易、技术、知识产权等领域存在重大分歧，彼此指责对方存在不公平竞争。然而，我们也必须看到，两国经济上的相互依赖和紧密联系。中美两国的经济活动不仅影响着各自国内，更在全球范围内产生着波及。因此，我们应该从更宽广的视角来思考问题，综合考虑短期利益和长远和平稳定的因素。

突发事件往往引发国际政治的深入思考。中美经济关系的剧变引起了全球范围内的关切，也引发了国际政治的思考。各国都在密切关注这一事件的进展，试图找到解决之道。然而，解决复杂问题需要更多的智慧和勇气。我们不能简单地将问题视为双边之争，而是要考虑到国际政治的复杂博弈，以及国际社会的利益和关切。正如寓言中锤子先生的故事告诉我们，解决问题需要远见和耐心。

在当前的环境下，我们迫切需要双方建立对话和合作的机制。中美两国作为世界上更大的经济体之一，承担着重要的国际责任。尽管存在分歧，但通过对话和协商，可以找到共同的解决方案，避免危害双方和全球经济的行动。在全球化的时代，经济相互联系，任何国家的举动都会对其他国家产生影响。因此，双方应该充分认识到自己的行动对全球的影响，采取负责任的态度来处理问题。

中美之间的经济摩擦确实令人担忧，但我们不能仅仅停留在担忧中。双方应该以开放的心态，建立平等、务实的对话机制，通过合作解决问题，维护全球经济的稳定和繁荣。只有共同努力，才能创造出更加和平与繁荣的未来。

• 消息3：想害人先害自己，日本大量建设核电站背后的阴谋

2011年3月11日，日本遭遇了一场规模为9.0级的强烈地震，引发了福岛之一核电站的核泄漏事故。这场天灾虽然令人痛心，但有观点认为其中暗含了日本谋求拥有核武器的报应。对于日本长期推动核能发展的背后动因以及其与核武器的复杂关系，我们需要进行深入的探讨。

日本作为世界上唯一曾受过核武器打击的国家，却有着一段极具讽刺性的历史。尽管遭受过核灾难，日本却一直在努力发展核能，这引发了许多人的疑问。这种现象的背后存在多重因素。

能源需求巨大。日本是一个人口稠密、工业发达的国家，对能源的需求一直保持高位。为满足电力需求，核能在一段时间内成为了一个看似有效的选择，因为核能可以在相对小的空间内产生大量电力。

能源安全和环保考虑。作为岛国，日本资源相对匮乏，对于能源的依赖性较高。在某种程度上，核能被视为减轻对进口能源的依赖的一种方式。此外，与燃煤等传统能源相比，核能发电产生的碳排放较低，对环境的影响相对较小，这在环保意识逐渐增强的当下也是一个因素。

这种选择也引发了不少争议。尽管日本在风能等可再生能源方面具有潜力，但核能一度成为主要的能源供应来源。这种选择在一定程度上受到了核能产业的影响，以及 *** 在能源政策上的取舍。

一直以来，有关日本是否有核武器意图的讨论一直存在。虽然日本一直坚持和平使用核能，但其拥有核武器的潜在可能性也引发了不少猜测。

二战结束后，日本曾展开过核武器研究，但宣布放弃发展核武器。然而，一些观点认为，日本拥有核能技术，一旦政治需要发生变化，发展核武器可能不是完全不可能的事情。在这种背景下，核能发展和核武器可能性之间的联系被一些人揣测着。

日本疯狂建设核电站的背后，既有实际的能源需求和环保考虑，也可能受到核武器发展的暗示。然而，这个问题远比表面看起来的复杂，需要综合考虑多个因素。在能源未来的选择以及国际政治的演变中，日本的行动会对全球产生深远的影响。我们需要以更开放、全面的视角，审视日本的核能政策，以及其背后可能存在的动机与影响。

• 消息4：侯友宜摊牌，不认“一中原则”，不想访问大陆，要求“两岸平等”

在台湾地区大选如火如荼地进行之际，备受期待的 *** 选举代表候友宜成为了众人瞩目的焦点。候友宜的崛起不仅源自其过去铁腕政策的影响，更重要的是他是否能够实现下架 *** 的目标，这成为众人关注的核心议题。

候友宜在过去的政治经历中展现出了坚定的政策立场，而这也为他赢得了台湾民众的信任。尽管他的言辞并不华丽，但他的竞选承诺却常常紧密贴合普通人的关切，这使得他受到许多人民的支持。这种亲民的形象和政策承诺为他赢得了选民的共鸣，将他推上了大选的舞台。

最引人瞩目的，是候友宜在两岸关系问题上的立场。有人认为，他的当选有可能促成两岸统一的局面，但候友宜却毫不回避地表明了自己的立场：“当选后不会访问大陆，不承认一个中国原则，两岸是平等的国与国关系”。这一表态引发了广泛的关注和争议，也使得人们对于两岸关系的未来产生了更多的猜测。

*** 在台湾地区的执政已经持续了8年，对于台湾社会产生了深远的影响。其中最引人注目的，莫过于其在 *** 议题上的推动，这导致本来相对温和的民众逐渐走向极端。这种独立倾向不仅影响了两岸关系的稳定，也加剧了台湾社会的分裂。候友宜的崛起被视为 *** 政策的转变，可能会为台湾社会带来新的氛围，但也存在着极大的挑战。

在台湾大选的背后，我们看到的是台湾社会对于政策取向的思考和重新评估。候友宜的出现引发了对于两岸关系未来走向的诸多问题，而 *** 的执政也使得台湾社会更加关注国内外政策的影响。无论选举结果如何，台湾社会都需要在政治领域保持稳定和谐，同时也需要在两岸关系上保持冷静与理性。只有通过平等、对话和合作，才能实现台湾的繁荣和稳定。

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